中国半导体蚀刻机破局的过程是通过国内科研投入和技术突破来实现的。

中国在科研投入方面持续增加，为半导体蚀刻机的破局提供了强大的支持。根据2022年的数据，中国的科研投入金额约为2.79万亿元人民币，比2025-05-02% 。

中国在光刻机关键技术方面取得了一系列突破，为半导体蚀刻机的破局奠定了基础。例如，中国成功解决了EUV光源的问题，并在国内完成了首台高能同步辐射光源科研设备的安装 。此外，南京大学的研究团队通过开发选区刻蚀、高温氧化修复与低温金属化工艺，成功实现了国际首支宽禁带半导体pn结构EUV探测器 。

中国的半导体设备制造企业在国产化方面取得了显著进展。例如，上海积塔半导体在全球设备招标中获得了30台设备的订单，这些设备主要用于芯片制造 。此外，上海新阳半导体也开始对EUV光刻胶展开前期探索性基础研发，为国产化光刻器打下了基础 。

尽管中国在半导体蚀刻机破局方面取得了一定的进展，但要冲击到国际领先企业如阿斯麦尔仍然具有一定的难度。阿斯麦尔在EUV光刻机领域具有强大的技术实力和市场份额，并且不断进行研发和创新。此外，美国对中国企业的限制措施也对中国半导体产业的发展带来了一定的挑战。

中国半导体蚀刻机破局是通过科研投入的增加、关键技术的突破和国产化进展来实现的。尽管面临一定的挑战，中国仍然有望在半导体蚀刻机领域取得更大的突破。